离子源

离子源

离子源以电子轰击电离(EI) 或化学电离(CI) 模式工作。样品从GC/MSD 接口进入离子源。
灯丝发射的电子由磁场引导进入离子化室。高能电子与样品分子相互作用，使之离子化和
碎裂。推斥极的正电压将正离子推向透镜组，这里它们要经过几个静电透镜。这些透镜将
离子聚焦成离子束，然后进入质量过滤器。

电子轰击(EI) 离子源

建议用于EI 离子源清洁的材料是砂纸，氧化铝粉末。

不要将灯丝或透镜绝缘体浸入到溶剂中。如果绝缘体脏了，要用棉签蘸上试剂级甲醇清
洗。如果这样做不能清洁绝缘体，就更换之。

化学电离(CI) 源

因为CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。

只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。

当清洗CI 源时，要特别注意CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极
板上的0.5 mm 直径的孔。

清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容
除外：

• CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI 离
子源
• 使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔
• 不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷